Wissenschaftliche*r Mitarbeiter*in / Doktorand*in / (m/w/d) - Atomlagenabscheidung für die Halbleiter-Chiptechnologie -

Das Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik (FBH) ist eine anwendungsori-entierte Forschungseinrichtung auf den Gebieten der Hochfrequenzelektronik, Photonik und Quantenphy-sik. Das FBH erforscht elektronische und optische Komponenten, Module und Systeme auf der Basis von Verbindungshalbleitern. Diese sind Schlüsselbausteine für Innovationen in den gesellschaftlichen Be-darfsfeldern Kommunikation, Energie, Gesundheit und Mobilität. Es verfügt über die gesamte Wertschöp-fungskette vom Design bis zu lieferfertigen Systemen.

In der Abteilung Prozesstechnologie suchen wir für die Gruppe Beschichtungstechnologien Unterstützung im Bereich der Atomlagenabscheidung (ALD).

Kennziffer 46/22

Ihr Aufgabengebiet:

An einer modernen Clusteranlage mit ALD-Kammer, zwei Plasmaätzreaktoren und einem Heizmodul ent-wickeln Sie neue industrietaugliche Prozesse für die Halbleiter-Chiptechnologie. Sie präparieren, charak-terisieren und optimieren die dünnen Filme und leisten einen wichtigen Beitrag zur Entwicklung und Ver-besserung verschiedener III/V -Bauelemente. Sie kommunizieren Ihre Ergebnisse auf wissenschaftlichen Tagungen und nutzen sie für Ihre Promotion.

Ihr Profil:

• Abgeschlossenes wissenschaftliches Hochschulstudium in Materialwissenschaft, Physik oder vergleichbaren Disziplinen
• Fundierte Kenntnisse in einem oder mehreren der folgenden Bereiche
o Atomlagenabscheidung
o Fertigungsprozesse der Mikrotechnologie
o III/V-basierte Halbleiterbauelemente
o CVD-basierte Abscheidung
• Erwartet wird ein hohes Maß an Eigeninitiative, technisches Verständnis und manuelles Geschick sowie die Fähigkeit, selbständig Problemlösungen zu finden
• Sie sind ein kommunikativer Mensch mit Teamgeist und begeistern sich für technisch-wissen-schaftliche Themen mit starkem Anwendungsbezug.
• Vorausgesetzt wird die Eignung zur Arbeit in Reinsträumen sowie der sichere Umgang mit der deutschen und englischen Sprache.

Möglichkeit zur Promotion in einer anspruchsvollen, interdisziplinären Tätigkeit bei der Entwicklung von neuartigen Halbleiterbauelementen
ein kollegialer Umgang und ein familienfreundliches Umfeld
eine umfangreiche Infrastruktur in zwei Reinräumen, die alle Möglichkeiten zur kreativen Entfaltung bietet
Anstellung, Vergütung und Sozialleistungen richten sich nach dem Tarifvertrag für den öffentlichen Dienst (TVöD Bund)
Betriebliche Altersvorsorge nach VBL
30 Urlaubstage
flexible Arbeitszeitgestaltung durch Gleitzeit
das FBH unterstützt aktiv die Vereinbarkeit von Familie und Beruf

Ein besonderes Augenmerk kommt der Gleichstellung der Geschlechter zu. Das Institut ist bestrebt, den Anteil von Frauen in diesem Bereich zu erhöhen. Daher sind Bewerbungen von Frauen besonders will-kommen. Schwerbehinderte werden bei gleicher Eignung bevorzugt eingestellt. Die Stelle ist zunächst auf 2 Jahre befristet.
Wir freuen wir uns auf Ihre Online-Bewerbung. Bitte klicken Sie dazu auf „Online bewerben“ und übermitteln uns auf diesem Wege Ihre vollständigen Bewerbungsunterlagen bis zum 30.11.2022

Bei Fragen zur Bewerbung steht Ihnen Frau Kelm gern zur Verfügung: Tel. 030 6392 2691 nadine.kelm@fbh-berlin.de.

Gustav-Kirchhoff-Str. 4
12489 Berlin

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Ort

Berlin

Veröffentlicht am

30.11.2022

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